PRICES include / exclude VAT
Homepage>CSN Standards>35 ELECTRICAL ENGINEERING>3587 Semiconductor elements>CSN EN 62047-2 - Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 2: Tensile testing method of thin film materials
Sponsored link
Released: 01.05.2007
CSN EN 62047-2 - Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 2: Tensile testing method of thin film materials

CSN EN 62047-2

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 2: Tensile testing method of thin film materials

Format
Availability
Price and currency
English Hardcopy
In stock
76.67 USD
FREE Shipping
Number of Standard:CSN EN 62047-2
Category:358775
Pages:32
Released:01.05.2007
Catalog number:78594
DESCRIPTION

CSN EN 62047-2

CSN EN 62047-2 Tato mezinárodní norma specifikuje metody zkoušek v tahu tenkovrstvových materiálů o délce a šířce pod 1 mm a tloušťce pod 10 µm, které jsou hlavním materiálem struktury mikroelektromechanických systémů (MEMS), mikrostrojů a podobných součástek. Hlavní materiály struktur pro MEMS, mikrostroje a podobné součástky se vyznačují typickými rozměry v řádu několika mikrometrů, výrobou materiálů pomocí nanášení a výrobou zkušebních kusů pomocí nemechanického obrábění, které používá leptání a fotolitografii. Tato mezinárodní norma popisuje zkušební metodu, která umožňuje zaručovanou přesnost odpovídající speciálním požadavkům. Přejímaná EN 62047-2 představuje 3 strany anglického textu a 25 stran anglického a francouzského textu normy IEC.
Original English text of CSN EN Standard.
The price of the Standard included all amendments and correcturs.