PRICES include / exclude VAT
Homepage>CSN Standards>35 ELECTRICAL ENGINEERING>3587 Semiconductor elements>CSN EN 62047-26 - Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 26: Description and measurement methods for micro trench and needle structures
Sponsored link
Released: 01.08.2016
CSN EN 62047-26 - Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 26: Description and measurement methods for micro trench and needle structures

CSN EN 62047-26

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 26: Description and measurement methods for micro trench and needle structures

Format
Availability
Price and currency
English Hardcopy
In stock
93.33 USD
FREE Shipping
Number of Standard:CSN EN 62047-26
Category:358775
Pages:40
Released:01.08.2016
Catalog number:500478
DESCRIPTION

CSN EN 62047-26

CSN EN 62047-26 Tato norma specifikuje popisy struktur zářezů a jehel v mikrometrovém měřítku. Dále poskytuje příklady měření pro geometrii obou struktur. Norma platí pro struktury zářezů s hloubkou od 1 µm do 100 µm, stěnami a zářezy s příslušnými šířkami od 5 µm do 150 µm a poměrem (hloubky zářezu k šířce zářezu) 0,006 7 až 20 a dále pro jehlové struktury se třemi nebo čtyřmi plochami s výškou, vodorovnou a svislou šířkou 2 µm nebo větší a s rozměry, které se vejdou do krychle o straně 100 µm. Norma platí pro navrhování konstrukcí MEMS a pro geometrické hodnocení po procesech zhotovení MEMS.
Original English text of CSN EN Standard.
The price of the Standard included all amendments and correcturs.